pvd镀膜工艺常用指南「多图」

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd镀膜工艺与您分享PVD镀膜能使原材料具备很多新的、优良的物理学和有机化学特性，在物件表层上表层的镀膜的方式关键有电镀法和化学镀镍法，使锂电池电解液电解法，因而这类表层的镀膜的标准，并且塑料薄膜薄厚也无法操纵，务必把膜材配置成水溶液，这类表层的镀膜方式不但塑料薄膜的融合抗压强度差，另外还会继续造成很多的废水。

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请问PVD镀膜膜层的厚度是多少？

 PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工。

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PVD磁控溅射原理

三种主要PVD镀膜涂层的原理 金属表面处理 原理 -3

PVD磁控溅射原理如图所示，在高真空状态下导人工艺气体，并在电极的两端加上高电压后，产生火花放电。此时等离子体中的正离子在电场的作用下撞击靶材溅射出靶材的金属原子。工作压力一般为1.0e-1~1.0Pa，溅射电压300-600V平行于靶材表面的磁感应强度为0. 04-0.07T。