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金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

真空镀膜加工与您分享

科普模具镀钛的五大新技术1.将电弧产生的等离子体中的中性宏观粒子、分子团等大颗粒过滤干净，减少大颗粒沉积的比例，模具镀钛极大地提高真空室内的离化率以及沉积速率，又有较好的表面光洁度效果。

2.中频磁控溅射增加离化率，特别是可以实现对非导体的镀前清洗，模具镀钛经磁过滤后沉积粒子的离化率达100%，柱状或平面状大面积电弧源保证高离化率的同时，沉积工艺更稳定。

3.高能脉冲叠加直流偏压减少工件的打火，模具镀钛通过电磁场的作用可以大大增加沉积离子的能量，从而改善膜层的结合力和致密性。

4.全封闭非平衡磁控溅射通过全封闭非平衡电磁场的作用，磁过滤阴极弧配以的电磁过滤系统，模具镀钛减少电荷积累引起的异常放电，增强膜基结合力和薄膜沉积的均匀性。

5.阳极层离子源辅助沉积提高轰击清洗的质量，因此模具镀钛的薄膜非常致密和平整光滑，通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜，改善膜层的结合力。

真空镀膜加工与您分享薄膜厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。

但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

真空镀膜加工与您分享pvd镀膜化学组分上的均匀性：

就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

自上世纪80年代末，物理气相沉积（PVD）工艺进入到领域。广泛应用于上沉积耐磨性薄膜，包括植入体，电子起搏器，手术仪器，牙齿矫正器和口腔器械等。

PVD技术的价值在于它能够在不改变底材料熟悉和生物力学功能的前提下修改其设备的表面属性。

ZDLC-1050硬质涂层镀膜机 广泛应用的表面涂层PVD镀膜会极大地改善的硬度和附着性。

01其中具备的显著优势

01提高耐磨性

02减少摩擦

03生物兼容性

04装饰性颜色和美观

05化学阻挡层

06镍敏感性

07生理盐水

08灭菌

膜层的生物兼容性是

其应用于上的先决条件。