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pvd镀膜技术与您分享

PVD镀膜(离子镀膜)技术的主要特点和优势—和真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比较，PVD离子镀膜具有如下优点：

A.膜层与工件表面的结合力强，更加持久和耐磨

B.离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的工件0v+R0S4

C.膜层沉积速率快，生产

D.可镀膜层种类广泛

E.膜层性能稳定、安全性高(获得FDA认证，可植入人体).

pvd镀膜技术与您分享大约在八十年代中后期，出现了热阴极电子蒸发离子镀、热阴极弧磁控等离子镀膜机，应用效果很好，使TiN 涂层刀具很快得到普及性应用。其中热阴极电子蒸发离子镀，利用铜坩 埚加热融化被镀金属材料，利用钽灯丝给工件加热、除气，利用电子增强离化率，不但可以得到厚度 3~5μm的TiN 涂层，而且其结合力、耐磨性均有不俗表现，甚至用打磨的方法都难以除去。但是这些设备都只适合于 TiN涂层，或纯金属薄膜。对于多 元涂层或复合涂层，则力不从心，难以适应高硬度材料高速切 削以及模具应用多样性的要求。

多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能 地发挥它们各自的***性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法增厚涂层，再利用多弧镀达到 终稳定的表面涂层颜色的新方法。

目前，一些发达国家(如德国 CemeCon、英国 ART-TEER、 瑞士 Platit)在传统的磁控溅射原理基础上，用非平衡磁场代替原先的平衡磁场、50KHz 的中频电源代替原来的直流电源、脉冲电源取代以往的直流偏压，采用辅助阳极技术等，使磁控溅射技术逐步成熟，已大批量应用在工模涂层上，现在已稳定生产的涂层主要有 TiAlN、AlTiN、TiB2、DLC、CrN，我国广东、江苏、贵州、株洲等地也已陆续引进此种技术，大有星火燎原之势。