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真空离子镀膜承诺守信「在线咨询」

发布时间:2022-03-07 04:01:00        作者:金百辰










金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

真空离子镀膜与您分享DLC涂层的基本结构    

类金刚石涂层不是由某个单质组成,而是一种含有SP3和SP2键的非晶碳涂层,在传结构上属于长程无序而短程有序的结构。根据涂层中碳原子的键合方式以及SP3和SP2键含量比例的不同,可以分为如下三种结构:    

1、非晶碳涂层,含有SP3和SP2键;    

2、含氢的非晶碳涂层,除了含SP3和SP2键之外,还含有一定数量的氢;    

3、四面体非晶碳涂层,含有大于80%的SP3键碳原子,也称非晶金刚石涂层。    

以上就是DLC涂层生长机理是怎样的及其基本结构的相关内容介绍。通过上述内容可知,DLC涂层的生长机理可以根据不同结构划分。不同的生长机理带来的结构与性能特点也不同。



真空离子镀膜与您分享PVD镀膜技术性是一种新奇的原材料生成与生产加工的新技术应用,PVD镀膜技术性是运用物理学、有机化学方式将固态表层涂敷一层特性的表层的镀膜,做到提升产品品质、增加商品使用寿命、节约资源和得到明显技术性经济收益的功效,并已在高新技术产业发展的发展趋势中展示出的行业前景,如航空公司、航空航天、电子器件、信息内容、机械设备、、化工厂、环境保护、等行业。



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物理气相沉积技术是简单的,环境友好的,无污染,可消耗少,均匀,致密,并在强结合到基片.PVD技术被广泛用于门窗五金,灯具,珠宝,工艺品和其他装饰产品的加工.PVD现在在硬件领域非常流行,许多的硬件制造商已经开始开发PVD产品并进行批量生产.

PVD与CVD:有什么区别?

物理气相沉积(PVD)是一种广泛使用的薄膜制造技术.说到这个短语,许多人将其与化学气相沉积(CVD)进行比较.尽管这两个短语在字面上仅相差一个字,但它们之间的差异实际上是很大的.

物理气相沉积使用物理方法,即物质的三种状态(气态,固态,液态)的转换,因此在制造过程中不会产生新的物质;化学气相沉积涉及化学反应,包括旧材料的消耗和新物质的生产.可以看出,物理气相沉积几乎没有污染,因此在当前的"环境友好"社会中,物理气相沉积越来越受到人们的青睐.





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Q3: 请问PVD镀膜的具体原理是什么?

A3: 离子镀膜(PVD镀膜)技术,其原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

Q4: 请问PVD镀膜与传统的化学电镀(水电镀)相比有何优点?

A4: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是,两者都属于表面处理的范畴,都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。

两者的不同点是:PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大,膜层的硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性更好,膜层的性能也更稳定;PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛,可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮;PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。





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