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接下来是化学气相沉积（CVD）。它是以化学反应的方式制作薄膜，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附，在基片上产生化学反应形成核，随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。

束流沉积镀，结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术，是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料，在比较低的基片温度下，形成具有良好特性薄膜的技术。

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜原理与您分享 为什么做PVD涂层前材料要做高温回火？虽然PVD涂层工艺用的多，但是很多人对PVD工艺不适合很了解，如果涂层的零件材料没经过回火处理，就会觉得涂层变小了。     

首先，我们就要了解炉内镀膜时的温度，工具镀PVD涂层加工时，零件处于高温真空环境，要求零件的耐高温性，毕竟成膜温度一般在在200-500°C左右。     

其次，零件在炉内400°C以内保温时间需要长达几小时。所以，需涂层处理的零件的材料必须做不低于400°C或以上高温回火处理，材料结构才能达到稳定。     

硬质合金类材料不在高温回火考虑范围内。    

 如果材料没经过回火处理，或温度不够或回火次数不够，材料结构不稳定，在炉内进行涂层操作的时候，相当于又做了高温回火程序一次，零件硬度降低、工件弯曲、变形、尺寸变异增大或缩小、影响尺寸公差。     

所以，需要涂层处理的零件的材料，必须满足达到400°C或以上高温回火处理要求。     

各种材料不同，回火温度也不相同，要想零件达到涂层要求，就必须做好材料的高温回火要求，严格要求热处理供应商按照涂层要求做好材料回火处理，保证你的零件PVD涂层时，不会出现零件镀大了、镀小了、镀变形的问题出现。

pvd真空镀膜原理与您分享PVD镀膜是通过一次涂覆获得的固体连续薄膜。它是一种薄塑料层，应用于金属、织物、塑料和其他基底，用于保护、绝缘、装饰和其他目的。涂层可以是气体、液体或固体，涂层的类型和状态通常根据要喷涂的基材来确定。PVD涂布过程中的温度与结合力、硬度等没有线性关系。在涂覆过程中，温度过低，薄膜生长不充分，表面粗糙，耐蚀性和显微硬度降低。高温容易产生粗大的柱状晶体。导致基体材料结构恶化，结合力下降，薄膜性能下降。

pvd真空镀膜原理与您分享提高PVD镀膜基底温度可以去除挥发性残留物，增强表面扩散和再结晶能力。界面反应加速，底层杂质扩散。基质融化了。增加晶体颗粒的大小。促进再结晶界面的外延生长、降低内应力、增加阶梯覆盖率以及增加与衬底相互作用所需的涂层温度取决于工件的金相结构、热处理、工件几何形状，例如锐边、薄板的快速加热以及温度测量非常困难。电弧电流、基体偏压和反应压力也会影响温度。涂层可在180℃开始。工件应在不会引起材料物理变化的温度下进行涂覆。