太原pvd真空镀膜工艺参数常用解决方案「多图」

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜工艺参数与您分享真空镀膜工艺流程注意事项。

1：需要加工的零部件表面状态，这包括产品是否存在缺陷，表面状态，表面污染物等。

2：表面缺陷的存在会导致外观件终美观度。当然对于微小缺陷的存在，喷涂工艺可以掩盖。但是在注塑或者冲压成型过程中造成的批量瑕疵品必须在进货检验前剔出。

3：表面状态，这涉及是否是透明件，表面特殊粗糙度设计。设计外观状态要求的，必须在工艺制定前考虑整体工艺路线，否则完成后难以得到预想的外观效果。

4：表面污染物，对于批量产品，如何去除前段工序残留的污染物是关系质量与效率的关键。例如在注塑过程中产生的脱模剂的去除。

5：夹具的设计，这包括夹具是否适应全部工艺流程，是否能保证表面均匀性，装夹效率。

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真空镀膜机与高真空的关系。

蒸发真空镀膜机工作时真空材料蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面，这样，镀膜层形成的速度高，膜层结合力强，成膜质量也好。

反之，如果真空度低，有大量的空气分子存在，一方面，蒸发真空镀膜机蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞，阻碍了膜材分子的扩散，降低了膜层形成的速度，影响了膜的均匀性与结合力；另一方面，空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高，必然要加大加热功率；更有甚者，空气的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分变性；在连接着抽气机的情况下，若不能很快完成镀膜，膜料将被抽走。

因此，真空镀膜机需要在高真空条件下进行工作；当然，真空度也不需要绝dui的高。事实上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。如果需要确保真空镀膜产品厚度的均匀性，可使用真空镀膜光密度在线测试仪来连续监控镀膜品质。

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PVD镀膜的竞争格局平板显示器主要包括液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、场致发光显示器（EL）、场发射显示器（FED）、有机发光二极管显示器（OLED）以及在 LCD 基础上发展起来的触控（TP）显示产品。

其中，市场应用以液晶显示器为主。镀膜是现代平板显示产业的基础环节，为保证大面积膜层的均匀性，提高生产率和降低成本，几乎所有类型的平板显示器件都会使用大量的镀膜材料来形成各类功能薄膜，其所使用的 PVD 镀膜材料主要为溅射靶材，平板显示器的很多性能如分辨率、透光率等都与溅射薄膜的性能密切相关。