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金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

真空镀膜工艺与您分享PVD涂层是指在真空条件下使用低电压、大电流电弧放电技术，使用气体放电来蒸发目标并电离蒸发的物质和气体，以及使用电场加速将蒸发的物质及其反应产物沉积在工件上。PVD涂层是一个复杂的过程，特别是应用于工具和模具的PVD涂层要求涂层的所有方面都有很高的性能。在涂布过程中，许多因素会影响涂层的性能。

真空镀膜工艺与您分享如果生产过程中的真空度不够，表面上沾了灰尘或油滴之后会出现严重的后果。集成电路中细线的宽度是吸烟时吐出的烟雾颗粒直径的1/3，是一粒灰尘直径的近万分之一。对集成电路而言，哪怕落有一颗烟雾的颗粒，就好像大路上停了一架大型飞机一样，使电子无法通过或造成短路。

新材料开发离不开真空。

以分子束外延为代表的薄膜生长技术是新材料开发的重要手段，薄膜材料放到蒸发源中之后被蒸发或升华，在高真空环境中，薄膜材料的原子或分子可以长距离飞行，到达衬底成膜;而且由于残留气体少，衬底表面形成的薄膜纯度高。

表面科学领域对真空度的要求高。

减反射膜

是应用广泛的光学薄膜，它可以减少光学表面的反射率而提高其透射率。对于单一波长，理论上的反射率可以降到零，透射率为百分之100;对于可见光谱段，反射率可以降低到百分之0.5，甚至更低，以保证一个由多个镜片组成的复杂系统有足够的透射率和低的杂散光。现代光学装置没有一个是不经过减反处理的。由于其具有很低的反射率和鲜艳的表面颜色，现代人们日常生活中的眼镜普遍都镀有减反射膜。

真空镀膜工艺与您分享PVD镀膜工艺离子镀(Ion Plating)

PVD镀膜涂层工艺中的为离子镀膜方式；此方法是利用电弧撞击靶材，使靶材原子被激发出来，与反应性气体反应，形成化合物沉积于工件表面的一种技术。炉内运行至高真空后，通入惰性气体，加偏压造成离子(Ar+)，及带负电的电子(e-)，带正电的离子会撞向通入偏压为负极的基板底材，来清洁工件表面；之后再通入反应气体，在靶材和基板底材间产生电浆，进行镀膜作业。此一方式成膜速度快、密著性较佳，多用于切削刀具镀膜涂层处理。

大部分企业都采用的阴极电弧法(cathode arc)进行镀膜作业。与其他方式相比，此种方式拥有较多的离化率、均匀的附着性，大多被应用在金属的硬质镀膜上，特别是要求耐磨耗的物件。