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pvd镀膜工艺与您分享PVD真空镀膜的过程没有想象当中那么容易，而且整个过程的工艺还是比较复杂的，当我们在做的时候，也分为多个不同的原理，想要做到均匀性，也会受到很多因素的影响，在人们做的时候，如何让镀膜变得更均匀，可以从以下这些角度来考虑。

PVD真空镀膜的均匀性，这和厚度有着一定的关系，我们必须要首先保障厚度是均匀的。在整个光学薄膜的尺度上来看，选择这种方式来进行镀膜，看起来就会更加的均匀，能够更好的减少粗糙的感觉。但如果我们用更小的尺度来进行衡量，确实也会存在着一些不平等的情况。对于均匀性的衡量，不同的衡量尺度，终所得到的结论都会存在着或多或少的差异，这需要根据我们所使用的领域来作出判断。

pvd镀膜工艺与您分享高真空（10-1~10-6 Pa）

在高真空状态下，气体分子密度更低，容器中分子数很少。因此，分子在运动过程中相互碰撞很少，气体分子的平均自由程已大于一般真空容器的线度，绝大多数的分子与器壁相碰撞。因而在高真空状态蒸发的材料，其分子（或微粒）将按直线方向飞行。另外，由于容器中的真空度很高，容器空间的任何物体与残余气体分子的化学作用也十分微弱。在这种状态下，气体的热传导和内摩擦已变得与压强无关。

减反射膜

是应用广泛的光学薄膜，它可以减少光学表面的反射率而提高其透射率。对于单一波长，理论上的反射率可以降到零，透射率为百分之100;对于可见光谱段，反射率可以降低到百分之0.5，甚至更低，以保证一个由多个镜片组成的复杂系统有足够的透射率和低的杂散光。现代光学装置没有一个是不经过减反处理的。由于其具有很低的反射率和鲜艳的表面颜色，现代人们日常生活中的眼镜普遍都镀有减反射膜。