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pvd真空镀膜炉与您分享高真空（10-1~10-6 Pa）

在高真空状态下，气体分子密度更低，容器中分子数很少。因此，分子在运动过程中相互碰撞很少，气体分子的平均自由程已大于一般真空容器的线度，绝大多数的分子与器壁相碰撞。因而在高真空状态蒸发的材料，其分子（或微粒）将按直线方向飞行。另外，由于容器中的真空度很高，容器空间的任何物体与残余气体分子的化学作用也十分微弱。在这种状态下，气体的热传导和内摩擦已变得与压强无关。

光学薄膜应用于照明设备

光学薄膜在照明设备中有广泛的应用，如白炽灯，低压钠灯等，可以使照明设备更加的节能。大多都是在灯的表面镀上一层对红外光反射很强的增反膜，当光照射在其上时发生干涉相长，增强了反射光以使透射光减弱，从而使得可见光的透射增强。

这样不仅可以节约能源又可以改变光谱的分布，主要分布在可见光上，少分布在红外光上，甚至可以使红外光上的为零，所以镀膜的灯要比不镀膜的亮。其中白炽灯大多用的二薄膜或银膜，钠灯用的是二氧化硅膜。

pvd真空镀膜炉与您分享PVD镀膜工艺离子镀(Ion Plating)

PVD镀膜涂层工艺中的为离子镀膜方式；此方法是利用电弧撞击靶材，使靶材原子被激发出来，与反应性气体反应，形成化合物沉积于工件表面的一种技术。炉内运行至高真空后，通入惰性气体，加偏压造成离子(Ar+)，及带负电的电子(e-)，带正电的离子会撞向通入偏压为负极的基板底材，来清洁工件表面；之后再通入反应气体，在靶材和基板底材间产生电浆，进行镀膜作业。此一方式成膜速度快、密著性较佳，多用于切削刀具镀膜涂层处理。

大部分企业都采用的阴极电弧法(cathode arc)进行镀膜作业。与其他方式相比，此种方式拥有较多的离化率、均匀的附着性，大多被应用在金属的硬质镀膜上，特别是要求耐磨耗的物件。