合肥pvd真空镀膜工艺参数即时留言「金百辰」

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜工艺参数与您分享后续加工问题。PVD膜层由于与基材有着非常好的结合力，不容易脱落，产品可进行后续简单的机械加工，如剪，折，弯，切。但是，焊接对PVD膜层影响非常大，瞬间的高温会导致膜层脱落和变色，因此，需要焊接的不锈钢产品要镀色，不锈钢制品进行彩色PVD镀膜是先做好构件后再镀色，不能用镀好PVD膜的材料去加工制作产品。

光学薄膜应用于光学仪器

很多光学仪器的透镜上都镀有光学薄膜。望远镜的透镜上不镀光学薄膜，则当光线照射到镜片上时，某些波长的光反射时会发生干涉相长，使反射光的强度增强，透射光减弱，而且其他的光会产生互补色，会影响望远镜的成像。

光学薄膜可以改变光线的透光率，使反射过大的光透射增强，提高透光率，这时候用的就是增透膜。可以用控制薄膜的厚度来控制使哪些波长的光透射增强还是反射增强。在镜片上镀膜不仅可以提高望远镜的成像质量，还使望远镜对各种环境的适用性增强，如雪地，反射光太强会使望远镜成像色彩淡失真的，色差严重，在望远镜上镀上红膜就会很好的解决这些问题。

pvd真空镀膜工艺参数与您分享真空蒸镀的设备及物理原理

真空蒸镀设备主要由真空室和抽真空系统组成，真空室内有蒸发源(即蒸发加热器)、基片及基片架、基片加热器、排气系统等。

将镀膜材料置于真空室内的蒸发源中，在高真空条件下，通过蒸发源加热使其蒸发，当蒸气分子的平均自由程大于真空室的线性尺寸以后，膜材蒸气的原子和分子从蒸发源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的碰撞与阻碍，可直接到达被镀的基片表面上，由于基片温度较低，膜材蒸气粒子凝结其上而成膜。

pvd真空镀膜工艺参数与您分享PVD镀膜工艺溅射镀膜(Sputtering)

高能量的粒子撞击靶材时靶中的分子或原子被撞击出来的现象，此原理是以靶为阴，以基板为阳，在10-2Torr左右的Ar气氛中加以高电压时阴附近的Ar气离子化后变成Ar+，与阴相撞击，被Ar+离子所撞击飞出的分子或原子撞上基板而堆积形成薄膜。

溅射应用范围广，利用其薄膜的机能则是以耐磨耗性、耐蚀性、耐热性抗静电或装饰性为目的，但是因附著力的问题少见于刀具的应用。适用于大宗连续性镀膜，例如手机零件等。