真空镀膜工艺承诺守信 金百辰镀膜工艺

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

真空镀膜工艺与您分享真空镀铝常见质量问题如下：

1、镀铝时薄膜出现孔洞

原因： ①蒸发舟内铝料太满。解决方法：降低送铝速度；提高蒸发舟电流。

②真空室内蒸发舟之间出现短路。解决方法：排除短路。

③真空室内杂质飞溅

2、镀铝时薄膜出现拉伸现象

原因： ①基材张力太大。解决方法：调节放卷、卷取张力控制系统，适当减少张力。

②冷却系统工作失常。解决方法：检查冷却系统，并排除故障。

高反射膜

能将绝大多数入射光反射回去。当选用介质膜堆时，由于该光学薄膜的损耗低，随着膜层数的不断增加，其反射率可以不断地增加(趋近于百分之100)。这种高反射膜在激光器的制造和激光应用中都是的。

分光膜

可将入射光的一部分透射，另一部分反射分成两束光，常用的是T：R=50：50的分光膜。

光谱分光膜

可将入射光中一部分光谱的透射，另一部分光谱的反射。将长波反射、短波透射的叫做短波通截止滤光膜;将长波透射、短波反射的叫长波通截止滤光膜。利用它们可以把一束光分成不同颜色的多束光。例如把一束光分成红、绿、蓝三原色，任何一种色光都可以通过这三种颜色的合成来获得。这种颜色分光膜在光电的彩色行业，诸如彩色摄影、彩色电视、彩色投影、彩色印刷等领域都是不可缺少的。

真空镀膜工艺与您分享磁场不均匀的影响

由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的，也不是处处正交的，都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的，至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响，也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的，有效方法就是配合实验具体分析。是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。

漂洗

漂洗是为了将残留在工件上的清洗液或其他脏物清理干净，使工件在烘干之前更加干净。工件上的残留物在烘干后将很难清理干净。在工业领域中．通常使用去离子水来进行漂洗，用去离子水而不用自来水进行漂洗．可避免自来水中的杂质及污染物残留在工件上。但是，去离子水的侵蚀性强，会对工件造成腐蚀。所以，必须在去离子水中加入一定量的防锈剂，才能用来漂洗工件．以防止工件在漂洗及烘干过程中被锈蚀。

烘干

清洗完的工件一般放入烤箱中烘干，烤箱包括箱体、排水管路、加热系统、排风系统及温度控制系统。水的沸腾、汽化温度为100℃，因而烘烤温度必须大于100℃，建议在110℃～130℃之间，这样既可以将水分快速蒸发烘干工件．又不至于烘干后，工件温度太高而需要很长时间冷却。