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金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd镀膜加工与您分享PVD镀膜技术是制备薄膜材料的主要技术之一，在溅射镀膜和溅射靶材生产方面有着重要的作用。PVD镀膜工艺起源于国外，在行业发展初期，镀膜设备和镀膜材料的配套以国外厂商为主。目前国内生产溅射板材的公司数量也在不断增加，但PVD镀膜技术依然落后月其他国家。

PVD镀膜行业被美、日、德企业垄断

长期以来PVD镀膜材料研制和生产主要集中于美国、日本和德国少数公司，产业集中度较高。范围内，日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯、住友化学等资金、技术水平、产业经验丰富的跨国公司居于高纯溅射靶材行业的领导地位，属于溅射靶材的传统强势企业，占据溅射靶材市场的绝大部分市场份额，主导着溅射靶材产业的发展。

减反射膜

是应用广泛的光学薄膜，它可以减少光学表面的反射率而提高其透射率。对于单一波长，理论上的反射率可以降到零，透射率为百分之100;对于可见光谱段，反射率可以降低到百分之0.5，甚至更低，以保证一个由多个镜片组成的复杂系统有足够的透射率和低的杂散光。现代光学装置没有一个是不经过减反处理的。由于其具有很低的反射率和鲜艳的表面颜色，现代人们日常生活中的眼镜普遍都镀有减反射膜。

pvd镀膜加工与您分享 磁控溅射生成的薄膜厚度的均匀性是成膜性质的一项重要指标，因此有必要研究影响磁控溅射均匀性的因素，以更好的实现磁控溅射均匀镀膜。简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中，闭合的磁场束缚电子围绕靶面做螺线运动，在运动过程中不断撞击工作气体气电离出大量的离子，离子在电场作用下加速轰击靶材，溅射出呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。所以要实现均匀的镀膜，就需要均匀的溅射出靶原子（或分子），这就要求轰击靶材的离子是均匀的且是均匀的轰击的。由于离子在电场作用下加速轰击靶材，所以均匀轰击很大程度上依赖电场的均匀。而离子来源于被闭合的磁场束缚的电子在运动中不断撞击的工作气体气，这就要求磁场均匀和工作气体气均匀。但是实际的磁控溅射装置中，这些因素都是不均匀的，这就有必要研究他们不均匀对成膜均匀性的影响。