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合肥真空镀膜公司***「多图」

发布时间:2022-05-16 09:51:00        作者:金百辰










金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

 真空镀膜公司与您分享PVD涂层

金属表面处理PVD镀 膜特点:增寿、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等***的使用性能广泛应用于模具工业中。

PVD是英文Physical Vapor Deition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用真空镀膜设备气体放电使钛板蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD镀 膜通常称谓:金属表面处理,镀膜,镀钛,真空镀膜,镀铬,镀钛加工,PVD,表面处理,钛板,表面处理加工,真空镀膜加工,表面 处理等.




真空镀膜公司与您分享被PVD涂层工件材料要求:

1.除特殊涂层外,涂层材料必须是导电的;

可以涂层材料包括:高合金工具钢、高速钢、不锈钢、硬质合金、钛合金等;

2.由于涂层生成温度在380-500℃,因此涂层工件的材料要能够承受500℃的温度而不发生性能变化(如挥发、变形、变软等),一般需要热处理3次高温回火处理;特殊低温(260-380℃)涂层工艺可降低涂层温度,具体可视工件的回火温度以及性能要求而定;

3.工件能够在涂层前进行退磁处理。




真空镀膜公司与您分享无论监控仪精度怎样,它也只能控制真空室里单点位置的膜厚,一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的,那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性,但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的,所以几乎是不可能消除的,但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。



真空镀膜公司与您分享物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用,但30年迅速发展,成为一门极具广阔应用前景的新技术,并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今,在钟表行业,尤其是手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。

真空蒸镀基本原理是在真空条件下,使金属、金属合金或化合物蒸发,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,高频感应加热,电子束、激光束、离子束高能轰击镀料,使蒸发成气相,然后沉积在基体表面,历,真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。






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