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襄阳pvd真空镀膜工艺参数来电垂询「金百辰」

发布时间:2022-05-11 11:19:00        作者:金百辰










经过近二十年的发展,我国的真空镀膜行业已获得了长足的进步。特别是我国世界制造业中心地位的确立,使我国在国际真空镀膜行业中占有举足轻重的位置。随着国家对环境保护的日益重视,传统水电镀工业由于其高污染、高能耗等缺点,已被国家列入限制发展行业。这对国内真空镀膜行业的发展创造了良好的发展机遇,传统水电镀工艺已在越来越多的领域被新兴的真空镀膜技术所取代。在国内,现有大大小小的真空镀膜企业数千家,且呈现逐年上升的趋势。真空镀膜涂料制造企业已迎来的历史发展机遇。




真空镀膜加工时为什么会出现产品掉膜的现象呢?今天英利悦电子的小编就累为您解释下,真空镀膜掉膜的原因。

真空电镀加工时产生掉膜的原因很多也很复杂。处理起来很棘手,可以考虑从以下几个方面排除:

1、表面清洁度

产品表面洁净度不够,可以考虑离子源清洗时气放大、时间长点。

2、清洗过程中的问题

镀前清洗不到位,或更换了清洗液。

3、工艺的问题

工艺参数是否有变动,在镀膜时间和电流上做适当调整。

4、靶材的问题

钛靶是否,检查和更换。

5、真空腔是否漏气

进行一次捡漏。

6、产品表面氧化

氧化的原因很多,可以自行判断处理。




PVD:物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。 PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。




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