东莞pvd真空镀膜技术服务介绍 金百辰真空镀膜

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜技术与您分享真空溅射镀膜

定义

给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属 原子飞弹，而在样品表面形成金属皮膜的方法。

真空溅射锁膜的优缺点

优点：

· 对于任何待锁材料，只有 能做成靶材，就能实现溅射

· 溅射所获得的薄膜与基片结合良好

· 溅射所获得的薄膜纯度高， 致密性好

· 溅射工艺可重复性好，膜 厚 可控制， 同 时司 以 在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜

真空手套箱用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制ZrN膜。真空手套箱设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。

(1)抽真空

5 X 10-3～6.6 x 10-13Pa本底真空。真空手套箱设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。

(2)轰击清洗

真空度：通人气真空度保持在2～3Pa。轰击电压：800～1000V，脉冲占空比20%。轰击时间：10min。

(3)手套箱

①沉积锆底层

真空度：通入气，真空度保持在s x l0-1Pa。靶电压：400—550V，靶功率15 N 30W/Crrr2。脉冲偏压：450～500V，占空比20 %。手套箱时间：5～10min。

②镀ZrN膜

真空度：通入氮气，真空度保持在(3～5) x 10-1Pa。靶电压：400～550V，靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压：150～200V，占空比80 %。手套箱时间：20～30min。

由于真空手套箱磁控溅射技术中金属离化率低，不容易进行反应沉积，获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空手套箱设备可采用气体离子源将反应气体离化，扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源，柱状弧源还是辅助手套箱源。

真空镀膜加工时为什么会出现产品掉膜的现象呢？今天英利悦电子的小编就累为您解释下，真空镀膜掉膜的原因。

真空电镀加工时产生掉膜的原因很多也很复杂。处理起来很棘手，可以考虑从以下几个方面排除：

1、表面清洁度

产品表面洁净度不够，可以考虑离子源清洗时气放大、时间长点。

2、清洗过程中的问题

镀前清洗不到位，或更换了清洗液。

3、工艺的问题

工艺参数是否有变动，在镀膜时间和电流上做适当调整。

4、靶材的问题

钛靶是否，检查和更换。

5、真空腔是否漏气

进行一次捡漏。

6、产品表面氧化

氧化的原因很多，可以自行判断处理。

PVD基本方法:真空蒸发、溅射bai 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。

电镀(Electroplating)就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。