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金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

真空镀膜公司与您分享真空溅射镀膜

定义

给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属 原子飞弹，而在样品表面形成金属皮膜的方法。

真空溅射锁膜的优缺点

优点：

· 对于任何待锁材料，只有 能做成靶材，就能实现溅射

· 溅射所获得的薄膜与基片结合良好

· 溅射所获得的薄膜纯度高， 致密性好

· 溅射工艺可重复性好，膜 厚 可控制， 同 时司 以 在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜

真空手套箱用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制ZrN膜。真空手套箱设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。

(1)抽真空

5 X 10-3～6.6 x 10-13Pa本底真空。真空手套箱设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。

(2)轰击清洗

真空度：通人气真空度保持在2～3Pa。轰击电压：800～1000V，脉冲占空比20%。轰击时间：10min。

(3)手套箱

①沉积锆底层

真空度：通入气，真空度保持在s x l0-1Pa。靶电压：400—550V，靶功率15 N 30W/Crrr2。脉冲偏压：450～500V，占空比20 %。手套箱时间：5～10min。

②镀ZrN膜

真空度：通入氮气，真空度保持在(3～5) x 10-1Pa。靶电压：400～550V，靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压：150～200V，占空比80 %。手套箱时间：20～30min。

由于真空手套箱磁控溅射技术中金属离化率低，不容易进行反应沉积，获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空手套箱设备可采用气体离子源将反应气体离化，扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源，柱状弧源还是辅助手套箱源。

真空镀膜公司与您分享PVD镀膜特性

的附着力，可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落（PVD镀膜持有很高附着力和耐久力）。其它的技术，包括电镀，喷涂都不能与其相比。

可以蚀刻出任何能够想象出的设计图案。

可以使用在内装修或者室外。

真空镀膜，，抗腐蚀。耐腐蚀，化学性能稳定，抗酸。手机外壳PVD镀膜抵抗力。

镀膜外壳容易清除油漆和指纹。

在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不失去光泽，不氧化，，不脱落和爆裂。高度耐磨损，耐刮擦，不易划伤。可镀材料广泛，与基体结合力强。

离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。

物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：

(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。

(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。

(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。