宁波pvd真空镀膜加工询问报价「金百辰」

什么是真空镀膜设备？

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过蒸发镀膜设备+所镀产品图蒸发镀膜设备+所镀产品图程，终形成薄膜。

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜加工与您分享PVD镀膜特性

的附着力，可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落（PVD镀膜持有很高附着力和耐久力）。其它的技术，包括电镀，喷涂都不能与其相比。

可以蚀刻出任何能够想象出的设计图案。

可以使用在内装修或者室外。

真空镀膜，，抗腐蚀。耐腐蚀，化学性能稳定，抗酸。手机外壳PVD镀膜抵抗力。

镀膜外壳容易清除油漆和指纹。

在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不失去光泽，不氧化，，不脱落和爆裂。高度耐磨损，耐刮擦，不易划伤。可镀材料广泛，与基体结合力强。

pvd真空镀膜加工与您分享怎么纠正真空电镀膜层附着力差的问题？

◆一定要保证产表面打底活化处理，并且确认镀膜工序全部处于开启状态

◆根据基材本身的性质不同来确定工艺参数

◆定期更换电极板，在设备上多花点时间，可以避免很多出错

溅射镀膜基本原理是充(Ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(Ar)原子电离成离子(Ar+)，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，称直流(Qc)溅射，射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。 电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“异华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。